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主题:【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其

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家园 不是

一次曝光是设备指标要求,多次曝光是无奈。

ASML的DUV光刻机1980,2000,2050,指标上一次曝光分别对应是28nm、14nm和7nm。1980、2000可制造7nm是通过多次曝光获得,但晶体管密度、成本差距很大。

光刻机是集成系统,分别是光源、操作平台、光柵、光学滤镜。都影响光刻机指标。还有一点更重要是制造工艺差别,也就是工艺参数积累。

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