主题:【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其
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复 你这说的完全错误
大山猫河友原话是:
28nm和7nm光刻区别主要就是一次曝光和四次曝光吧
我理解是采用多重曝光工艺
你是行家,应该知道28nm和7nm芯片生产工艺差别吧。晶体管结构也从2D上升为3D结构。也就是从MOSFET转换为Finfet工艺。如果采用Finfet工艺,是不可能采用多重曝光工艺。
台积电7nm工艺是采用Finfet工艺,华为的台积电加工的9000和国产的9000s都是Finfet工艺,不是采用传统多重曝光获得。
实际无论哪一家芯片制造商,只要采用Finfet工艺,都有几次不同光刻过程。Finfet工艺同Duv和Euv光刻机无关。这点是我表达不严谨的地方。
目前看,国产7nm芯片成功,更多是实现了Finfet工艺的成熟。
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🙂28nm也是标28nm 6 大山猫 字23 2023-09-08 17:44:07
🙂不是 10 南门桥 字439 2023-09-07 21:42:08
🙂你这说的完全错误 5 moletronic 字66 2023-09-08 14:34:16
🙂你这帽子有点大
🙂7nm一次曝光能做到? 11 大山猫 字196 2023-09-08 09:44:15
🙂不大可能 5 fakeone 字234 2023-09-08 18:44:08
🙂5nm工艺中最细小的结构-鳍的物理尺寸大约是36~38nm 7 披狼皮的羊 字0 2023-09-10 11:42:25
🙂工艺啥的决定于最小方向的尺寸吧 4 fakeone 字141 2023-09-11 03:11:33