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主题:【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其

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家园 不大可能 -- 有补充

即使E U V,波长13.5 nm 也比7 nm 大,目前 EUV 光刻机镜头数值孔径很小,单次曝光不可能达到有清晰边缘的 7 nm 结构。。。也得多次。更别说波长长一个量级的 D U V 光刻机。。。。

作者 对本帖的 补充(1)
家园 现在ASML 的EUV光刻机数值孔径0.33 -- 补充帖

理论光学聚集分辨率就是 20+ nm。。。

制造10纳米以下,必需要复杂的 pattern 干涉才行。。。

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