主题：大墙国竟然没有人能懂的该如何做好一杯咖啡实在是大悲哀。 -- forger

有没有可能气过咖啡粉（porous medium）和水通过的效果的差别？

下面我跟liaodaog，豪哥讨论了一下伯努利原理。然后你跟一刻馆兄给了回复。貌似我对你的帖子理解有些问题。在继续折腾以前，我有几个问题得先澄清一下。请看下面的图

这里面我标了4个区域或位置。你所说的两个低压沸腾到底发生在哪里啊？而你用伯努利原理描述的过程是哪些区域呢？

我一直以为是区域4，也就是粉饼之中。貌似我弄错了？

我得先搞明白这个，再继续。

经过拉瓦尔喷管，产生低压，起到的是减压蒸馏的作用，更多的，不是水在低于100度沸腾，而是让溶解在水里面的一些物质，能够更多的挥发出来。

最熟悉的，就是酒精蒸馏，酒精溶于水，酒精的沸点比水低，我们一般82度减压蒸馏来把溶解在水里的酒精分馏出来，这个时候，水也有蒸发，但是酒精蒸发的更多，最后就可以把浓度低的酒精溶液变成浓度高的酒精溶液。

咖啡里面还有很多类似乙酸乙酯这样的香味物质，水里的溶解度未必很高，沸点比水低，有很大的香味，这种物质，通过Laval nozzle,就气化跑到空气当中，我们就可以闻到香味了。（是的，跑掉了，喝不到，只能闻到了），所以，好的咖啡店尤其在国外，你可以闻到浓浓的咖啡香味，而国内的垃圾店是闻不到的。

我那个计算是假设伯努利原理在粉饼中发挥作用。而且取出口处流速为零，压力为1bar。如果要按你说的25秒流完，30cm/s的出口流速，那内部低压区的流速要更高才行。如果我没搞错的话，大约需要8.95m/s! 是30cm/s流速的将近30倍！OMG

不过貌似我的伯努利原理是应用于粉盒内部假设是基于对你原文的错误理解，所以前面那坨计算属于无本之木。全都不算数啦

我重新在顶楼回了一帖，希望搞搞清除细节。有空的话，你看一下。

我从没有讲咖啡机如何如何。 我只指出有入口压力极大，出口常压，中间负压的东西。咖啡机是不是那样，不是我关心的。 你们和F君过不去，我又不是不知道，已经刻意把技术讨论局限于一个极小的范围。 至于后来围绕bernoulli原理和方程的展开，是针对宏君前提来前提去的论述。 中国的学校大楼是不是豆腐渣，地球人都知道，但我只是指出空心砖是符合建筑手册要求， 而且再三讲了渣不渣不在我的讨论当中。至于你认为这是围绕豆腐渣论述，那是你有阅读障碍。

发重了

方程当然是对的，所以才能用来忽悠人。

这是个低速压滤过程，两厘米内压头损失高达9bar。滤饼里会产生低压沸腾？

拉瓦尔喷管压缩扩散过程是用于气体的，神棍硬说对不可压缩液体好用得很，元芳你怎么看？

明显的下面带个窟窿的一块滤饼，你很热情地介绍bernoulli,我提醒你用错方程你还委屈。。。。

你还说懂流体。。。。寒一个。。。

F大师最讨厌你这样不懂装懂的中国人了。。。。

结果出来的全是F大师的高论。。。真是恶趣味啊。。。

号称做出没有咖啡因的espresso......

一再讲了，咖啡机能不能不在我讨论范围。我不懂那东东，不懂就不说，这还不谨慎啊？。我只捉了一个宏君不对或者不严谨的论证漏洞，不代表我反对他的最后论证结论，当然也不代表我同意。这样的阅读水平，不知道怎么看文献的。

随便找找，关于好的espresso没有咖啡因或者咖啡因很低的东西，满坑满谷，漫山遍野。

I was taking to Barrista who explained that Expresso can be made without Caffeine using the the right grind and water temprature and brew time But he did say there were very few machines that achieve this He explained that intially pure coffee tast is released from the bean and the caffeine follows later

现在SCAA收星粑粑的钱拿到手软，自然替人家的垃圾背书咯。

严格说来你用伯努利吸盘做例子来说明确实存在"入口压力极大，出口常压，内部负压"的设备也不严谨啊。从上面的示意图看，waffer不是伯努利吸盘的组成部分啊。不过你的结论是对的，而宏寺陈述不严谨。他大概只盯着目标粉盒说话，而你从更广泛的角度指出了他的疏漏之处。

而单看waffer，slot，吸盘底面这三个的话，貌似流体通道的面积没有变化，那么相应的流速不变，压差又从何而来呢？我的一个猜想是slot出口处的压力是负压，然后流体离开出口以后很快在出口附近扩散到周边大气，速度降到零，压力恢复到大气压。

后来改了盘加晶片这个系统。 习惯洗然。 做仿真的时候，晶片和盘体之间的cavity的流场一向叫内流场的。slot越来越窄，流面就细了。 不过还有别的原因让流速在晶片面很快。那盘体斜着下来，能 产生一个很快的旋流，slot的流速反而贡献小点。