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主题:纪念湘江战役是为了迎战即将到来的科技封锁 -- 百年

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家园 那就请葡萄大讲讲吧

我先暖暖场,尼康和佳能开发153nm紫外线的干式光刻机失败,导致他们的光刻机加工精度停留在了65nm。ASML孤注一掷沿用193nm紫外线,但是开发浸润式光刻机成功,加工精度一路飙升至7nm,尼康和佳能就放弃这块市场了。

国内研究EUV光源的是长春光机所,听说进度还比较顺利,其他就不太清楚了

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