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主题:挥发性存储器 -- btest

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家园 粗粗看了一下

其原理是利用floating body的电荷改变mos管开关阈值。这样可以清晰的读取数据而且读取操作不削弱存储的电量。等于是把信号放大的一级。写入好象是利用impact ionization 来产生正电荷。不知道如何具体操作,在源漏之间加过电压?

SOI的隔离层恐怕不是指栅级(为什么叫栅?)和沟道之间。通常说的是burried oxide, 埋在body下面的。

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