主题:【讨论】西西河学化学的神仙帮帮忙吧! -- 这个杀手有点冷
本穷现在做实验做的发慌,求助空气中乙醇和硅高温下发生化学反应生成什么东东啊
空气和乙醇的比例多少?空气过量会导致体系呈现氧化态,反之是还原态,相差很大的。
高温是多少度?100'C?还是1000'C?
硅是什么状态?粉末?颗粒?大块固体?
常压空气还是真空?开放体系还是密闭的?体积大约多大?
最好把你所知道的反应条件都列全了,不同条件会有区别的。
2000度还怎么跟硅反应?
如果说是突然加温,乙醇来不及挥发,那么我认为生成的应该是碳化硅,很难是其他什么东西。
在硅的表面可能会有碳化硅或者碳沉积。其他的来不及反应。碳如果没有及时脱离高温区,会被氧化。
脉冲激光束冲击如此的Si表面会在Si表面形成Si的氧化膜,如在封闭的体系,会有部分的SiC粒形成。
这做一下表面分析就知道了。
没有Si-H产物?
只有俺这样的土人才会去学。
试着答一下。
硅和空气中的氧在高温下会反应生成氧化硅,这点应该不会错的。用激光的话,可以精确控制加热带的宽度。激光照射到区域,乙醇被蒸发,从而暴露在空气中被氧化。激光作用时间很短,附近的区域的乙醇来不及蒸发,即使蒸发也是蒸气,从而隔绝空气,避免由于热传导导致邻近部分被氧化,从而控制氧化带的宽度。
另外也有可能生成碳化硅,取决于反应条件。
对于硅加工的工艺不太熟,仅提供一点可能的思路,供参考。算是抛砖引玉吧。
此外,做实验时要注意安全。空气加乙醇加高温,不注意比例的话容易发生爆炸。最好找相关的工艺书或有经验的人看看。
我过去听人说过,单晶硅表面分布其他成分结晶点。不知道工艺怎么做成的。我原来以为是刻蚀出窗口离子注入。看了你这么说,才知道还可以用激光打。
不过对半导体工业来说,这么用激光打点效率太低了吧。
只是从化学角度瞎猜的。
硅烷(SiH4)
一、硅烷的理化性能
化学性质:硅烷是一种无色、与空气反应并会引起窒息的气体。
同义名称:四氢化硅(Silicon hydride)
CAS号:7803-62-5
化学式:SiH4
含量%:99.99%
危险级别:2.1 易燃气体;2.3有毒气体
http://baike.baidu.com/view/275481.htm