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主题:【原创】风华绝代总在绝处生--中兴之后的中国芯片 -- 达萨

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家园 这都是哪来的消息啊

中国70年代发展半导体技术,第一代光刻机能加工微米级,当时完全替代了进口产品,研制单位也非常挣钱,到70年代末,第二代亚微米级的光刻机也研制出来了

英特尔直到486才到了1微米,80年代后期的事情,70年代末就到亚微米绝对领先英特尔10年啊。。。

俺倒是看到了这个,比较符合实际,国内93年做出1.5微米,达到国际80年代中期水平,80年代中期的英特尔386的确是1.5微米:

中科院光电所研制成功新型投影光刻机

本刊讯一种1.5~2微米直接分步重复投影光刻机最近由中国科学院光电技术研究所研制成功,现已通过两轮工艺考核,成品率优于50%。据报道该机是国内首台可供实用的样机。 1.5~2微米直接分步重复投影光刻机是“七五”国家技术攻关项目,1990年3月完成该设备研制并进行了技术评议。其后又分别于1991、1993年进行了两轮工艺考核。该机采用了全新的电视对准系统,在国内首次实现了掩模自动对准;采用了lO倍精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统。达到国际八十年代中期水平,能满足“八五”期间国内集成电路生产和研制需要。... (本文共1页) 阅读全文>>

出处: 《电子工业专用设备》1993年03期

通宝推:外俗内正,一介书生,老老狐狸,疯雨后,acxp,
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