主题：工业和信息化部官宣：新一代DUV -- dudu8972
共:💬44 🌺256 🌵14
对应着工艺大约是45nm。但是如果用上基于软件的衍射修正，可以到28nm，如果用上多重曝光，最高到14nm也是有可能的。
不过对28nm，一般不会如此大动干戈。
中国目前公布的东西，敌人一定会拆解其中的每一个部件，有可能的话制裁其中的每一个供应商以及供应商的供应商，因此此时公布的光刻机，一定是敌人无可奈何的，挡无可挡的。
两岸猿声啼不住，轻舟已过万重山。
- 相关回复 上下关系8
🙂似乎回错地方了，删了 dudu8972 字0 2024-09-17 01:06:08
🙂上海微电子公开“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利 5 dudu8972 字213 2024-09-16 08:43:13
🙂【讨论】套刻精度是什么意思 1 伊贺双刀流 字32 2024-09-15 11:15:41
🙂这个是套刻精度
🙂有猜测说，这个公布的全国产 5 慧诚 字127 2024-09-17 03:30:18
🙂三个一代是传统技能了 审度 字210 2024-09-17 18:31:10
🙂28nm是个节点，平面工艺尽头，再往下是finfet 5 鹰扬龙骧 字93 2024-09-16 22:51:43
🙂前提是产能和良率能达到量产的标准 3 zju 字114 2024-09-16 23:51:22