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主题:【整理】芯片败局 -- 拿不准

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家园 还在EUV

DUV多重曝光的极限就在7NM,当然据传台积电当初有最终搞到5NM的方案,但是由于EUV的突破,最后没有走下去。

要实现更高端的芯片制造工艺,就必须在EUV上面有突破。

不过就7nm来说,90%的需求都能满足了,也就移动设备受体积限制,必须追求最高端的工艺

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