主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之
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复 除非不走光学路线
下一代的EUV光刻系统至今问题多多，无法投入生产。intel的22nm技术将仍然使用现在的193nm光刻技术。也许16nm的时候，能够用EUV，但是16nm的FET能不能做得出来，估计是够呛了。
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🙂除非不走光学路线 1 时常数 字404 2009-03-04 13:31:04
🙂见过电子束用于金属表面抛光的，那是相当的光滑啊。 山海马甲 字0 2014-07-14 05:25:00
🙂这些好像技术上还不成熟 江淮客 字74 2009-03-04 21:48:15
🙂我估计光刻也就这样了。
🙂山寨最后还是要招安的 1 司徒彼 字86 2009-03-04 08:01:13
🙂这个好像不是光刻机吧？ 3 贪玩的风筝 字286 2009-03-03 22:27:19