西西河

主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

共:💬78 🌺221
全看分页树展 · 主题 跟帖
家园 我估计光刻也就这样了。

下一代的EUV光刻系统至今问题多多,无法投入生产。intel的22nm技术将仍然使用现在的193nm光刻技术。也许16nm的时候,能够用EUV,但是16nm的FET能不能做得出来,估计是够呛了。

全看分页树展 · 主题 跟帖


有趣有益,互惠互利;开阔视野,博采众长。
虚拟的网络,真实的人。天南地北客,相逢皆朋友

Copyright © cchere 西西河