主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之
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现在好像很多都快到光学极限了，如果要继续往小了做，用光刻的方法就不太行了。
其他的呢，就有E-beam（电子束蚀刻）好像还听到过X-Ray，Ion-Beam之类的。不过这个也有自己的问题，别的不是很清楚，E-Beam就是速度慢，虽然线宽可以很小，但是就是不能量产，不能适应工业生产。
如果真的要搞这个，作为国家策略可以做两手准备，一方面研究传统的光刻，另外也开发一下新的技术。新技术大家都在研究，说不定苹果就砸在哪个山寨上了呢？:-)
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🙂光刻机karl suss, not zeiss 龟途漫漫 字0 2009-03-04 13:49:59
🙂除非不走光学路线
🙂见过电子束用于金属表面抛光的，那是相当的光滑啊。 山海马甲 字0 2014-07-14 05:25:00
🙂这些好像技术上还不成熟 江淮客 字74 2009-03-04 21:48:15
🙂我估计光刻也就这样了。 西潜1号 字163 2009-03-04 19:38:04
🙂山寨最后还是要招安的 1 司徒彼 字86 2009-03-04 08:01:13